Filtr K&F CONCEPT MC UV kompatybilny z aparatami Leica Q3 43/Q3 28/Q3/Q2, supercienki filtr ochronny na obiektyw aparatu z 36 powłokami wielowarstwowymi, wysoka rozdzielczość, mosiężna oprawka (seria Nano-X PRO)
Kod produktu: KF01.3235
Brak opinii dla tego produktu.